• Anodizing Coating 알루미늄(Al)과 산소(O)의 전기 화학반응을 통해 알루미늄 표면에 단단한 산화알루미늄 피막(Al2O3)을 형성하는 기술
• 대기 플라즈마 용사 코팅(APS) 대기 조건에서 고온의 플라즈마를 이용하여 코팅하고자 하는 물질을 순간적으로 용융, 분사하여 제품 표면에 형성 / Y2O3, YAG, etc.
• 아크 용사 코팅(Arc) 전기 방전을 이용하여 녹는점이 낮은 코팅 소재를 순간적으로 용융, 분사하여 제품에 막을 형성하는 기술
• Particle 유기물, 무기물 등의 오염 요소
• CDA (Clean Dry Air) 유분, 수분 분리부터 건조한 매우 순수한 압축 공기
• DIW 미네랄, 금속 이온 등 이온을 제거한 순수한 상태의 물
• APS( Atmosphere Plasma Spray) 대기 조건에서 고온의 플라즈마를 이용하여 코팅하고자 하는 물질을 순간적으로 용융, 분사하여 제품 표면에 형성 / Y2O3, YAG, etc.
• 아크 용사 코팅(Arc) 전기 방전을 이용하여 녹는점이 낮은 코팅 소재를 순간적으로 용융, 분사하여 제품에 막을 형성하는 기술
• Anodizing Coating 알루미늄(Al)과 산소(O)의 전기 화학반응을 통해 알루미늄 표면에 단단한 산화알루미늄 피막(Al2O3)을 형성하는 기술
• SPS Coating (Suspension Plasma spray) 원료의 미세분말을 물이나 에탄올에 분산시킨 Suspension이나 Precursor용액을 플라즈마 제트(Plasma jet)에 투입하여 용사피막을 형성하는 용사법
• PVD E-beam Coating Pellet type의 Source를 전자 beam으로 melting 시키면 source가 증발 하여 모재에 Coating이 되며 보조수단으로 RF ion beam Sputtering을 추가 적용 Film density를 높일 수 있음.
• ALD (Atomic layer deposition) 원자층 증착 (Atomic layer deposition,) 방법은 각각의 반응 기체들을 순차적인 펄스 형태로 주입하여 기상반응을 억제하고 기판표면에서 자기제한적인 흡착 과정(self-limited adsorption)을 통한 표면 반응에 의해 박막을 형성하는 방법.
• Y2O3 Y2O3 용사 코팅은 내열성이나 내고온산화성, 내식성이 우수하며 반도체 / 디스플레이 등의 제조 장치 혹은 공정에서 사용되는 플라즈마 에칭 분위기 속에서 높은 저항성(erosion)을 발휘하여 여러 분야에서 사용되고 있는 세라믹 용사 코팅입니다.
• YAG(Yttrium Aluminum Garnet) Y2O3의 경도 개선을 위해 Al2O3를 첨가, 소결하여 YAG (Y3Al5O12) 합성 할 수 있으며 Y : Al 함량 비가 3 : 7로 Al Rich 임.
• YAM(Yttrium Aluminum Monoclinic) Y2O3의 경도 개선을 위해 Al2O3를 첨가, 소결하여 YAG (Y3Al5O12) 합성 과정에서 YAG 보다 낮은 소결 온도에서 YAM 을 합성 할 수 있으며 Y : Al 함량 비가 7 : 3로 Y Rich 임.